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RenderMan渲染器中的烘焙全流程
發布時間：2018-11-17 19:57:24
為了獲得最佳效果，烘焙應遵循比較規範的工作流程。就像在廚房進行烘焙一樣，我們需要收集工具和原料，讓我們先從烘焙攝像機、切割屬性開始，然後加入遮光率和分辨率。
常規烘焙工作流程
將昂貴的算法烘焙到磚形的紋理貼圖中是一款非常強大的工具，如果得到正確使用，就能簡化渲染，並使渲染更有效。首先熟悉一下點雲和磚形的紋理貼圖。從這裏我們就可以開始談論一般的烘焙策略和屬性，有時很複雜，會影響最終的烘焙質量。
烘焙攝像機
我們對於REYES算法的討論中，有很多概念在烘焙過程中都是很重要的。謹記在REYES算法中，當拆分鏡頭時， 視見體之外的所有事物被去除。這也就意味著，當烘焙整體效果像遮光了一樣（這是由最終渲染攝像機外的幾何圖形影響的）時，通常你會希望通過一台擁有更廣闊視角的攝像機來渲染你的烘焙。這就是“烘焙攝像機”的概念。你可以從場景中的任意攝像機進行烘焙，但設置烘焙時，你還需要注意一些事情：
你所需要烘焙的場景大小
無論是想烘焙一個場景中的所有事物，還是單獨烘焙一個事物，接下來要使用ptfilter.exe等離線計算遮光等。
有時候場景太大而不能進行有效烘焙（如通過城市峽穀的一個長途飛行）。在這種情況下，渲染起來就更容易，不需要烘焙，而是單獨計算每幀遮光。
當選擇烘焙場景時，應注意幾個可能會產生烘焙工件的選項。診斷渲染問題的最好方法是打開點雲文件，看一下RenderMan是如何將該場景分塊處理。
屬性和工件
記住我們對REYES的探討，我們對幾何形狀處理後，會發生一些事情來提高RenderMan對最終鏡頭的渲染效率，而不是烘焙效果：剔除了背麵和隱藏麵。對渲染速度來說，這非常棒（大多數情況下都很合意），但是當我們為了重新利用對象而進行烘焙時，它可能從其他角度可見，所以我們需要禁用這些剔除屬性。這裏有一些圖像和電影，可以幫助診斷渲染中的問題。
遮光率和分辨率
你可能想要增加烘焙密度來捕捉當前相機設置中未捕獲的高頻細節。我們可以通過兩種方法來增加我們的點雲密度：下調遮光率（增加圖像中陰影樣本數），或者增加圖像的分辨率（在當前遮光率下遮蔽更多像素）。謹記點雲的每個點都是直接與微多邊形的陰影相關的。所以說，渲染越大，創建的點雲越大就變得有意義了，或者說，遮光率越低（陰影樣本間空隙更小）同樣也會增加寫入點的數量。如果你有一個遮光率為5，像素分辨率為640×480的圖像，你就可以通過將分辨率改為1280×960，將遮光率設為10來達到同樣的點密度。如果遮光率或分辨率太低，你最後的磚形的紋理貼圖將受到影響。
背麵剔除
通常情況下，當你麵對的是一個有很多固體物體的大型場景時，你就不會介意物體背麵是否被渲染器隱藏。但當來自多視圖的烘焙數據需要重新運用，或一些有助於基於點的色溢或遮光的數據需要重新運用時，你就需要確保渲染器沒有將其剔除。如果剔除了，沒有對效果做出貢獻的剔除麵就會產生錯誤。如果繞著一個已經剔除背麵的物體飛，你會注意到有一塊黑色區域，在這個區域中是沒有幾何體的。
剔除隱藏
可能你確定物體不是背麵，但對當前攝像機視角仍不可見。如上麵提到的，烘焙時，這些麵都應有助於基於點的色溢和遮光。在這種情況下，這個選項應該被禁用。
Dice Rasterorient
有時你可能希望物體的切割要根據它們在屏幕上所占空間的數量進行，使特寫物體可以得到大量切割，但由於透視問題 ，遠處的物體切割就比較少。這非常有效，而且自動減少了在屏幕上占取較少視覺空間的物體的幾何複雜性。這樣可以節省時間，文件也更小（他們的點較少）。不幸的是，這種“光柵導向”的切割在烘焙物體時，並不總是適用。如果你將切割相機設置為從上麵烘焙場景，所有垂直麵占用很少的屏幕空間，導致采樣就很稀疏。要獨立切割攝像機視圖，請確保Dice Rasterorient被禁用。
在上圖中，圓柱體的頂端是光柵導向切割烘焙的。在圓柱體底部切割中，該屬性被禁用，注意為了更均衡，進行“單視圖”切割。
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