在mudbox中如何使用低精度模型來實現高精度效果？

首先需要將高精度模型轉換為法線貼圖和置換貼圖，然後在Maya.3ds Max或8Monkey中，將法線貼圖或置換貼圖賦予低精度模型進行渲染，可大大減少實際要計算的模型麵數，極大地加快了顯示和渲染速度，這樣就可以達到高精度模型的效果。

Step01打開Mudbox軟件，執行File>Open（文件>打開）命令，打開配套光盤中的Shengwuok.mud文件，如下圖（左）所示。

導出低模

重複按下鍵盤上的Page Down，將當前模型細分降到1級。

激活Select/Move ToolsObjects（選擇/移動工具>物體）命令，用鼠標左鍵單擊模型，黃色高亮顯示說明模型已經被選擇，執行菜單File>Export Selection（文件>導出選擇）命令，將模型導出為Dimo.obj文件，如下圖（中）所示。

導出高模

重複按下鍵盤上的Page Up，回到模型最高級別6級，執行菜單File-Export Selection（文件>導出選擇）命令，將模型導出為Gaomo.obj文件，如下圖（右）所示。

最後導出中高模

模型再降到5級，執行菜單File>Export Selection（文件>導出選擇）命令，將模型導出為Pipei.obj文件。

Step02接下來，進入3ds Max軟件中，將低模與中高模Pipei.obj進行對位，這樣處理後的低模才能在最後的烘焙中達到比較好的效果。

為什麼不選擇高模進行匹配呢？是因為高模麵數太多，導入3ds Max後操作會很緩慢，退而求其次選擇中高模進行匹配對位，至於最後的烘焙，我們仍舊使用高模。

Step03執行菜單File-Impor>Import（文件>導入>導入）命令，導入Mudbox中製作的Dimo.obj和Pipei.obj文件，在彈出的OBJImport Options（導入設置）對話框中，確保勾選Import as single mesh（作為單獨的網格導入）選項，低模和中高模重疊在一起，如下圖所示。

Step04在兩個模型上分別單擊鼠標右鍵，執行ConvertTo>Convert to Editable Poly（轉換>轉換為可編輯多邊形）命令，將模型轉化為多邊形。

按H鍵打開場景管理對話框，選擇Pipei模型，在視圖空白處單擊鼠標右鍵，在彈出的快捷菜單中選擇Hide Selection（隱藏選擇）命令，將Pipei模型隱藏，場景中隻保留低模，接下來對低模進行一些調整，如下圖所示。

Step05按下F4鍵，將模型以邊麵的方式進行顯示，進入邊級別，展開Selection（選擇）

卷展欄，單擊Loop（循環）按鈕，選擇模型中間的循環邊，然後展開Edit Edges（編輯邊）卷展欄，單擊Split（分割）按鈕，將模型沿邊進行斷開，如下圖（左）所示。

Step06單擊按鈕，進入元素級別，就能很容易選擇一半模型，按Delete（刪除）鍵將模型的一半刪除，如下圖（右）所示。

Step07確保模型的坐標中心位於原點的位置。將Pipei模型顯示出來，將低模的一半與Pipei模型進行對位，盡量讓低模包裹住Pipei模型，調整完成之後將其導出為Dimook.obj，如下圖所示。

角色模型創建完成後的一個比較枯燥的任務就是展UV了，如果單獨利用Maya自帶的UV編輯工具則實現起來比較繁瑣，目前在行業中出現了很多關於優化UV的軟件或插件，而UVLayout就是其中一款，UVLayout展UV的速度非常快，隻需要記住相關的幾個快捷鍵就能在短短的幾分鍾得到滿意的UV.

下麵就來學習UVLayout這個神奇的軟件。

Step08打開UVLayout軟件，單擊Load（載入）按鈕，在彈出的窗口中選擇"Dir"導入Dimook.obj文件，如下圖所示。

Step09 UVLayout的視圖操作非常簡單，按住鼠標左鍵可以旋轉視圖，按住鼠標中鍵可以平移視圖，而按住鼠標右鍵可以縮放視圖。

在旋轉視圖的時候，會感覺非常不靈活，這是因為旋轉中心軸的方向不正確。單擊"Display"，此欄是選擇視圖的中心軸，通常選擇“Free"，如下圖（左）所示。

Step10隻需要將鼠標指針放在需要剪開的地方，按C鍵來分割模型，如果剪開的邊超出了需要的範圍，如下圖（中）所示，可以使用w鍵來取消。

Step11按Enter（回車）鍵把模型分開，如下圖（右）所示。

需要注意的是，鼠標指針要放置在要分割的模型上，快捷鍵才起作用。

Step12用D鍵把分離開的模型調入UV視圖窗口中，使用Shift+F鍵展開Uv，待閃爍變慢，再按一下空格鍵，此時大部分UV已經展開完畢，此模式是軟件在對模型進行自動展開後的調整。在此視圖中，我們可以選擇在UV展開最正確（淡綠色麵積最大）的時候再按一下空格鍵，停止對UV的自動調整，如下圖所示。

Step13現在我們可以通過Ctrl+鼠標中鍵來移動UV點；或者通過Shif+鼠標中鍵移動一個區域內的UV點；還可以通過Cr+-Shif+鼠標中鍵移動一個UV點，並帶動周圍的UV點。這些操作可以讓我們更加自由方便地控製UV點。如果展開的UV不好，當然也可以把這個UV返回編輯視窗中，再重新來分配UV.

Step14其他部分也使用相同的方法展UV，待UV全部展完之後，使用[或]鍵，將所有的UV塊放置在一個紅色的方形區域內，結果如下圖（左）所示。

Step15按3鍵或者單擊Display>3D按鈕，進入3D預覽視窗，按T鍵觀察紋理，在此視圖中我們可以觀察哪個部位的UV有問題，UV的切口在哪個部位，如下圖（右）所示。

Step16如果發現UV沒有問題，就可以對模型進行保存了。單擊"Save"按鈕打開保存的菜單，在保存的菜單中直接覆蓋Dimook.obj，如下圖所示。

Step17再次回到3ds Max中，導入展完UV的Dimook.obj模型，為這個模型添加一個UnwrapUVw修改器，單擊Edit UVs>Open UV Editor按鈕，打開UV編輯器，充分利用UV空間，對UV進行重新排布，如下圖（左）所示。

Step18當前隻有一半的模型，需要鏡像出模型的另一半。保持模型為選擇狀態，單擊Modifier List（修改器列表），為其添加一個Symmetry（對稱）修改器，然後單擊鼠標右鍵，執行Convert To-Convert to Editable Poly（轉換>轉換為可編輯多邊形）命令，塌陷為一個可編輯多邊形，這樣就創建出另一半模型，如下圖（右）所示。

Step19繼續添加一個Unwrap UVw修改器，單擊EditUVsOpen UV Editor按鈕，打開UV編輯器，可以看到鏡像的模型和之前的模型UV是重疊在一起的，這在烘焙UV的時候會出錯，為了避免錯誤的產生，需要將左側模型的UV分離開來，結果如下圖所示。

Step20再次單擊鼠標右鍵，執行ConvertTo-Convert to Editable Poly（轉換>轉換為可編輯多邊形）命令，進行塌陷。執行菜單File>Ilmport（文件>導入）命令，導入Pipei.obj文件，將展好UV的模型與Pipei模型進行重疊，如下圖（左）所示。

Step21為展好UV的模型添加EditMesh（編輯網格）和Projection（投射）修改器，如下圖（右）所示。

Step22展開Cage（包裹）卷展欄，調整Amount（數量）值為5.84，讓它完全包裹住Pipei模型，如下圖所示，藍色的線框就是調整Cage後的結果。

Step23執行File>Export（文件>導出）命令，將展好UV的模型導出為Dimo.SBM文件，在彈出的對話框中按下Presets>Lowdefinition mesh（預設>定義低網格）按鈕，單擊Export（導出）按鈕，這樣帶有Cage，UV信息的低模就導出成功了，如下圖所示。

接下來在著名的烘焙軟件xNormal中進行貼圖烘焙，該軟件的優勢是烘焙的速度非常快，質量也非常高，不用顯示模型就可以烘焙，即使麵數多的高模也可以導入進去烘焙，非常適合製作角色，所以在遊戲和影視動畫中的應用比例非常高。

Step24單擊“開始>SantiagoOrgaz>xNormal>3.17.5xNormal"，根據PC機的不同選擇32位或64位的軟件進行啟動，如下圖（左）所示。

Step25進入xNormal，單擊右側工具欄的Highdefnition meshes（定義高模網格）按鈕，在彈出的麵板上單擊鼠標右鍵，選擇Add meshes（增加網格）命令，添加Gaomo.obj文件，如下圖（右）所示。

Step26繼續單擊右側工具欄中的Lowdefinition meshes（定義低模）按鈕，在彈出的麵板上單擊鼠標右鍵，選擇Add meshes（增加網格）命令，添加Dimo.SBM文件，並且勾選Use cage（使用包裹）選項，如下圖所示。

烘焙法線

單擊右側工具欄中的Baking options（烘焙設置）按鈕，在左側的烘焙窗口中對一些選項進行設置：Output File（輸出文件）保存為Normal.tga；Size（大小）為2048 × 2048；Antialising（抗鋸齒）為2x；Edge padding（邊擴展）值為2；然後勾選Normal map（法線貼圖），激活後麵的■圖標，勾選Tangent space（切線空間）選項，接著單擊Generate Maps（生成貼圖）按鈕，等待片刻可以看到法線貼圖就被烘焙出來了，如下圖所示。

烘焙AO

在烘焙窗口中進行設置：Output File（輸出文件）保存為AO.tga；Size（大小）為2048 x 2048；Antialising（抗鋸）為2x；Edge padding（邊擴展）值為2；然後a選Ambient occlusion（AO貼圖），單擊Generate Maps（生成貼圖）按鈕，等待片刻可以看到AO貼圖就被烘焙出來了，如下圖所示。

很多軟件都有烘焙的功能，烘焙的方法也多種多樣，讀者可以參考配套光盤學習更多烘焙貼圖的方法，這裏不做過多闡述。